首頁商品介紹光學零件 Optics 波前儀 Wavefront Sensor 雷射光束輪廓分析儀

雷射光束輪廓分析儀

雷射光束輪廓分析儀（Laser Beam Profiler）專為雷射光束品質量測與光斑分析所設計，可快速、精確地分析雷射光束的多項關鍵參數，適用於全固態雷射、光纖雷射、半導體雷射等不同類型雷射光源。

透過先進的 CMOS 感測技術，可涵蓋可見光至近紅外光波段，適用於雷射聚焦光斑與準直光斑的即時監測。搭配專業光束分析軟體，可呈現雷射光束的二維與三維能量分布，並進一步量測光斑直徑、發散角、橢圓度等重要光束輪廓參數。

雷射光束輪廓分析儀可協助使用者快速掌握雷射光束的實際狀態，適合應用於雷射設備研發、光學系統調校、雷射加工、光束品質檢測及生產製程監控。

產品特色

高解析度：配備高像素感測器，可精確擷取並分析微小雷射光束，滿足高精度光束量測需求。
即時分析：搭配專業分析軟體，可自動進行光束分析與監測，並支援即時曝光與增益調整，有效提升量測效率與便利性。
客製化服務：提供多種機型，適用於不同雷射應用場景，並可依據客戶實際需求，提供模組化及專屬客製化方案。
高性價比：產品結構簡潔、安裝與維護容易，具備良好的使用壽命，以較低的設備投入即可實現精確且穩定的雷射光束量測。

檢測結果範例

加工功率下的光斑形貌分析

雷射一字線均勻度檢測

光束參量因子BPP 檢測

應用方向
雷射光束輪廓分析儀可應用於多種雷射光束與光斑檢測，包括：

加工功率下的光斑形貌分析
雷射一字線均勻度檢測
光束參數乘積（BPP）檢測
聚焦光斑分析
準直光斑分析
雷射光束輪廓分析
雷射光束品質檢測

產品系列與規格

基礎系列

型號	光譜範圍	光斑檢測範圍	可測雷射最高功率
CN0204VIS-B	340–1100 nm	22 μm–4.3 mm	1 W
CN0204VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	22 μm–4.3 mm	1 W
CD0307VIS-B	340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CD0307UV-B	190–340 nm / 340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CN0307VIS-B	340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CN0307UV-B	190–340 nm / 340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CN0310VIS-B	340–1100 nm	32 μm–9.8 mm	1 W
CN0310VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	32 μm–9.8 mm	1 W
CN0511VIS-B	340–1100 nm	55 μm–11.3 mm	1 W
CN0511UV-B	190–340 nm / 340–1100 nm	55 μm–11.3 mm	1 W
CN0511VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	55 μm–11.3 mm	1 W
CN0512VIS-B	340–1100 nm	50 μm–12.8 mm	1 W
CN0615VIS-B	340–1100 nm	64 μm–15.8 mm	1 W
CN0615VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	64 μm–15.8 mm	1 W
CN0622VIS-B	340–1100 nm	64 μm–22.4 mm	1 W
CN0622VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	64 μm–22.4 mm	1 W

紅外系列

型號	光譜範圍	光斑檢測範圍	可測雷射最高功率
CN0505VIS-NIR-B	340–1100 nm / 900–1750 nm	50 μm–5.1 mm	1 W
CN0505NIR-B	900–1750 nm	50 μm–5.1 mm	1 W

緊湊系列

緊湊系列具備小型化設計，可依不同波段及光斑尺寸需求進行選擇。

型號	光譜範圍	光斑檢測範圍	TEM₀₀ 光束檢測範圍
CN0204VIS-M	340–1100 nm	22 μm–4.3 mm	22 μm–2.9 mm
CD0307UV-M	190–340 nm	35 μm–7.1 mm	35 μm–4.7 mm
CN0307VIS-M	340–1100 nm	35 μm–7.1 mm	35 μm–4.7 mm
CN0310VIS-M	340–1100 nm	32 μm–9.8 mm	32 μm–6.5 mm
CN0615VIS-M	340–1100 nm	32 μm–15 mm	32 μm–11 mm
CN0615VIS-NIR-M	340–1100 nm / 1100–1350 nm	32 μm–15 mm	32 μm–11 mm

部分機型支援 1 mW–50 W 量測範圍，50 W 機型檢測時間約為 2 分鐘。

中功率系列

中功率系列適用於較高功率雷射光束的分析與量測，可對應不同波長、光斑尺寸及連續波（CW）雷射應用。

型號	光譜範圍	光斑檢測範圍	最大功率／量測條件
CN0104VIS-W300	340–1080 nm	20 μm–4 mm	300 W，聚焦光斑 ≥50 μm，CW
CN0310VIS-W300	340–1080 nm	50 μm–9.8 mm	200 W，聚焦光斑 ≥50 μm，CW
CN0104NIR-W500	1030–1080 nm	20 μm–4 mm	200 W@聚焦光斑 ≥20 μm；300 W@≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0310NIR-W500	1030–1080 nm	50 μm–9.8 mm	300 W@聚焦光斑 ≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0104NIR-W500-AZ20L	1030–1080 nm	20 μm–4 mm	200 W@聚焦光斑 ≥20 μm；300 W@≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0310NIR-W500-AZ20	1030–1080 nm	50 μm–9.8 mm	300 W@聚焦光斑 ≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0104NIR-W1000-FA10Y	1030–1080 nm	16.7 μm–2.5 mm @1/e²（TEM₀₀）	1000 W，水冷連續運行
CN0310NIR-W1000-FA10Y	1030–1080 nm	32 μm–5 mm @1/e²（TEM₀₀）	1000 W，水冷連續運行

微焦點系列

微焦點系列適用於微小雷射光斑的高倍率檢測，可依不同雷射波長、光斑尺寸及放大倍率選擇對應機型。

型號	光譜範圍	光斑檢測範圍	最大功率／倍率
CD0307UV-XD	248–266 nm	5 μm–0.5 mm	1 W；0.5 mJ；10X
CN0205UV-XU	343–355 nm	5 μm–0.5 mm	3 W；10X
CN0307UV-XU	343–355 nm	5 μm–0.5 mm	3 W；10X
CN0310VIS-XGW05	515–532 nm	10 μm–1 mm	2.5 W；5X
CN0310VIS-XG	515–532 nm	5 μm–0.5 mm	5 W；10X
CN0310VIS-XGW	515–532 nm	5 μm–0.5 mm	2.5 W；10X
CN0310VIS-XGW2	515–532 nm	2.5 μm–0.25 mm	2.5 W；20X
CN0310VIS-XGW5	515–532 nm	1 μm–0.1 mm	2.5 W；50X
CN0310NIR-XNW05	900–1100 nm	10 μm–1 mm	5 W；5X
CN0310NIR-XN	900–1100 nm	5 μm–0.5 mm	10 W；10X
CN0310NIR-XNW	900–1100 nm	5 μm–0.5 mm	5 W；10X
CN0310NIR-XNW2	900–1100 nm	2.5 μm–0.25 mm	5 W；20X
CN0310NIR-XNW5	900–1100 nm	2 μm–0.1 mm	5 W；50X
CN0310VIS-XVW05	400–800 nm	10 μm–1 mm	0.5 W；5X
CN0310VIS-XVW	400–800 nm	5 μm–0.5 mm	0.5 W；10X
CN0310VIS-XVW2	400–800 nm	2.5 μm–0.25 mm	0.5 W；20X
CN0310VIS-XVW5	400–800 nm	1 μm–0.1 mm	0.5 W；50X

選型與客製化服務

上述規格為各系列雷射光束輪廓分析儀的主要產品參數。若有其他型號、特殊波段、特殊光斑尺寸或客製化量測需求，可依實際應用條件進一步確認適合的產品規格。

建議提供以下資訊，以利產品選型：

雷射波長
雷射輸出功率
雷射類型（CW／脈衝）
光斑尺寸
聚焦或準直光束
所需量測倍率
實際應用環境

如有更多型號或客製化需求，可進一步洽詢。

附加檔案:
Quick_Installing_Guide.pdf
Beam_Analyzer_User_Guide_中性-V2.5.9.pdf

相關連結