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雷射光束轮廓分析仪

雷射光束轮廓分析仪（Laser Beam Profiler）专为雷射光束品质量测与光斑分析所设计，可快速、精确地分析雷射光束的多项关键参数，适用於全固态雷射、光纤雷射、半导体雷射等不同类型雷射光源。

透过先进的 CMOS 感测技术，可涵盖可见光至近红外光波段，适用於雷射聚焦光斑与准直光斑的即时监测。搭配专业光束分析软体，可呈现雷射光束的二维与三维能量分布，并进一步量测光斑直径、发散角、椭圆度等重要光束轮廓参数。

雷射光束轮廓分析仪可协助使用者快速掌握雷射光束的实际状态，适合应用於雷射设备研发、光学系统调校、雷射加工、光束品质检测及生产制程监控。

产品特色

高解析度：配备高像素感测器，可精确撷取并分析微小雷射光束，满足高精度光束量测需求。
即时分析：搭配专业分析软体，可自动进行光束分析与监测，并支援即时曝光与增益调整，有效提升量测效率与便利性。
客制化服务：提供多种机型，适用於不同雷射应用场景，并可依据客户实际需求，提供模组化及专属客制化方案。
高性价比：产品结构简洁、安装与维护容易，具备良好的使用寿命，以较低的设备投入即可实现精确且稳定的雷射光束量测。

检测结果范例

加工功率下的光斑形貌分析

雷射一字线均匀度检测

光束参量因子BPP 检测

应用方向
雷射光束轮廓分析仪可应用於多种雷射光束与光斑检测，包括：

加工功率下的光斑形貌分析
雷射一字线均匀度检测
光束参数乘积（BPP）检测
聚焦光斑分析
准直光斑分析
雷射光束轮廓分析
雷射光束品质检测

产品系列与规格

基础系列

型号	光谱范围	光斑检测范围	可测雷射最高功率
CN0204VIS-B	340–1100 nm	22 μm–4.3 mm	1 W
CN0204VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	22 μm–4.3 mm	1 W
CD0307VIS-B	340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CD0307UV-B	190–340 nm / 340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CN0307VIS-B	340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CN0307UV-B	190–340 nm / 340–1100 nm	34.5 μm–7.1 mm	1 W
CN0310VIS-B	340–1100 nm	32 μm–9.8 mm	1 W
CN0310VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	32 μm–9.8 mm	1 W
CN0511VIS-B	340–1100 nm	55 μm–11.3 mm	1 W
CN0511UV-B	190–340 nm / 340–1100 nm	55 μm–11.3 mm	1 W
CN0511VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	55 μm–11.3 mm	1 W
CN0512VIS-B	340–1100 nm	50 μm–12.8 mm	1 W
CN0615VIS-B	340–1100 nm	64 μm–15.8 mm	1 W
CN0615VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	64 μm–15.8 mm	1 W
CN0622VIS-B	340–1100 nm	64 μm–22.4 mm	1 W
CN0622VIS-NIR-B	340–1100 nm / 1100–1350 nm	64 μm–22.4 mm	1 W

红外系列

型号	光谱范围	光斑检测范围	可测雷射最高功率
CN0505VIS-NIR-B	340–1100 nm / 900–1750 nm	50 μm–5.1 mm	1 W
CN0505NIR-B	900–1750 nm	50 μm–5.1 mm	1 W

紧凑系列

紧凑系列具备小型化设计，可依不同波段及光斑尺寸需求进行选择。

型号	光谱范围	光斑检测范围	TEM₀₀ 光束检测范围
CN0204VIS-M	340–1100 nm	22 μm–4.3 mm	22 μm–2.9 mm
CD0307UV-M	190–340 nm	35 μm–7.1 mm	35 μm–4.7 mm
CN0307VIS-M	340–1100 nm	35 μm–7.1 mm	35 μm–4.7 mm
CN0310VIS-M	340–1100 nm	32 μm–9.8 mm	32 μm–6.5 mm
CN0615VIS-M	340–1100 nm	32 μm–15 mm	32 μm–11 mm
CN0615VIS-NIR-M	340–1100 nm / 1100–1350 nm	32 μm–15 mm	32 μm–11 mm

部分机型支援 1 mW–50 W 量测范围，50 W 机型检测时间约为 2 分钟。

中功率系列

中功率系列适用於较高功率雷射光束的分析与量测，可对应不同波长、光斑尺寸及连续波（CW）雷射应用。

型号	光谱范围	光斑检测范围	最大功率／量测条件
CN0104VIS-W300	340–1080 nm	20 μm–4 mm	300 W，聚焦光斑 ≥50 μm，CW
CN0310VIS-W300	340–1080 nm	50 μm–9.8 mm	200 W，聚焦光斑 ≥50 μm，CW
CN0104NIR-W500	1030–1080 nm	20 μm–4 mm	200 W@聚焦光斑 ≥20 μm；300 W@≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0310NIR-W500	1030–1080 nm	50 μm–9.8 mm	300 W@聚焦光斑 ≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0104NIR-W500-AZ20L	1030–1080 nm	20 μm–4 mm	200 W@聚焦光斑 ≥20 μm；300 W@≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0310NIR-W500-AZ20	1030–1080 nm	50 μm–9.8 mm	300 W@聚焦光斑 ≥50 μm；500 W@≥100 μm，CW
CN0104NIR-W1000-FA10Y	1030–1080 nm	16.7 μm–2.5 mm @1/e²（TEM₀₀）	1000 W，水冷连续运行
CN0310NIR-W1000-FA10Y	1030–1080 nm	32 μm–5 mm @1/e²（TEM₀₀）	1000 W，水冷连续运行

微焦点系列

微焦点系列适用於微小雷射光斑的高倍率检测，可依不同雷射波长、光斑尺寸及放大倍率选择对应机型。

型号	光谱范围	光斑检测范围	最大功率／倍率
CD0307UV-XD	248–266 nm	5 μm–0.5 mm	1 W；0.5 mJ；10X
CN0205UV-XU	343–355 nm	5 μm–0.5 mm	3 W；10X
CN0307UV-XU	343–355 nm	5 μm–0.5 mm	3 W；10X
CN0310VIS-XGW05	515–532 nm	10 μm–1 mm	2.5 W；5X
CN0310VIS-XG	515–532 nm	5 μm–0.5 mm	5 W；10X
CN0310VIS-XGW	515–532 nm	5 μm–0.5 mm	2.5 W；10X
CN0310VIS-XGW2	515–532 nm	2.5 μm–0.25 mm	2.5 W；20X
CN0310VIS-XGW5	515–532 nm	1 μm–0.1 mm	2.5 W；50X
CN0310NIR-XNW05	900–1100 nm	10 μm–1 mm	5 W；5X
CN0310NIR-XN	900–1100 nm	5 μm–0.5 mm	10 W；10X
CN0310NIR-XNW	900–1100 nm	5 μm–0.5 mm	5 W；10X
CN0310NIR-XNW2	900–1100 nm	2.5 μm–0.25 mm	5 W；20X
CN0310NIR-XNW5	900–1100 nm	2 μm–0.1 mm	5 W；50X
CN0310VIS-XVW05	400–800 nm	10 μm–1 mm	0.5 W；5X
CN0310VIS-XVW	400–800 nm	5 μm–0.5 mm	0.5 W；10X
CN0310VIS-XVW2	400–800 nm	2.5 μm–0.25 mm	0.5 W；20X
CN0310VIS-XVW5	400–800 nm	1 μm–0.1 mm	0.5 W；50X

选型与客制化服务

上述规格为各系列雷射光束轮廓分析仪的主要产品参数。若有其他型号、特殊波段、特殊光斑尺寸或客制化量测需求，可依实际应用条件进一步确认适合的产品规格。

建议提供以下资讯，以利产品选型：

雷射波长
雷射输出功率
雷射类型（CW／脉冲）
光斑尺寸
聚焦或准直光束
所需量测倍率
实际应用环境

如有更多型号或客制化需求，可进一步洽询。

附加档案:
Quick_Installing_Guide.pdf
Beam_Analyzer_User_Guide_中性-V2.5.9.pdf

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