Holo/Or 绕射光学镜片｜适用於雷射加工、非破坏检测与干涉仪应用的DOEs
由超锋科技代理的 HOLO/OR 是一家国际高科技公司，致力於设计、制造和商业化的衍射光学元件产品，可提供更有竞争力的价格与快速的出货时间。提供各种不同的订制化规格，为客户量身打造适合的解决方案，应用包含：医疗雷射、仪器仪表、雷射元件加工、材料加工制程、感测器与其他元件的制程。
1. Diffractive Beam Shaping / Top-Hat / Flat-Top
(应用：曝光机、雷射加工)
平顶的光斑塑型片(The top-hat beam shaping)是一种绕射元件用以将近高斯(Near-Gausian)分布的雷射入射光斑转换成转换成均匀强度与不同形状的出射光斑，包括圆形、矩形、正方形、线型、或其他形状，伴随锋利的光斑边缘。一个均匀的光斑，使表面的光强度平均(不包含过渡区域)，此外，其光斑特徵决定於一个清晰的过渡边界分辨出均匀处理与未处理的区域特徵。
2. Diffractive Homogenizer / Diffuser
(应用：雷射光混和、曝光机、萤幕显色均匀化)
我们的匀化片产品线，灵活的将任何平行输入的入射光转换成均匀强度和理想的光斑形状输出，波长范围横跨UV to 10.6um。我们的匀化片，可使用在任何需要将雷射强度均匀扩散成不同形状光斑输出的应用上。
3. Diffractive Beam Splitting / MultiSpot
(应用：单光分束雷射加工、雷射多点划线)
散光镜(Beam Splitting)是用来将单一雷射光束散开成多个雷射点，每一点与原本的入射光有相同的光学特性(除了功率与传播角(Propagational angle)外)。此产品挑选的重点为散射的绕射光点数目与绕射光点位置，有一维、二维的选择。
4. Diffractive Beam Sampling
(应用：高功率加工雷射监控)
光束取样片(beam samplers)被使用来监控高功率的雷射。此产品用来产生第零阶的高功率绕射点、与周围两个第一阶(+1.-1)的次功率绕射点。依照客户的需求可为您设计两个一阶绕射点与零阶绕射点的功率比，用来监控高功率的雷射稳定性。
5. Diffractive Vortex Lens
(应用：相位调控、干涉仪)
涡流镜的用途是将一个高斯模态的输入光转换成一个甜甜圈形状的能量分布环。涡流镜为一种独特的元件，其结构完全由spiral or helical phase steps构成，用以做相位的控制应用(Phase control)。
6. Diffractive Dual Wavelength
(应用：多波长雷射分光、多光源汇聚)
绕射光学打开了分辨两种同源光波长的可能性。他可将不同波长与不同来源的色光聚焦在同一个焦点或者将同源的两个不同波长的色光，在不同焦点分别聚焦出来。
7. Diffractive Multifocal Lens
(应用：雷射多点加工、材料分层加工)
绕射光学造成了单光源多焦点产生的可能性，可以将光束汇聚在同轴的不同焦平面上，称为 multifocal lenses，可以用在深度加工的不同层，以达到不同加工深度的应用。
8. Diffractive Lenslet Array
(应用：依客户需求订制雷射绕射点、镜片加工)
微透镜阵列(Lenslet arrays)是材料基板用为透镜组覆盖在上面制作而成。微透镜阵列用於diffusers或local focusing 和 sampling。绕射微透镜阵列的填充系数(fill factor)为100％，这是比折射微透镜阵列好的优点。成像系统中的微透镜像差校正(Aberration corrected)，可以很容易地设计和生产， Holo-Or 也提供一维的微透镜阵列和中心可变的二维阵列。
9. Collimated Beam Shaping / Top-Hat / Flat-Top
(应用：准直的曝光机、雷射匀化片准直化、绕射光斑边际优化)
此为客户订制化的应用规格，用以将匀化或整型后的光斑搭配准直镜组将模糊化的边际消除与曝晒距离的延伸，使光斑可以均匀的呈现在样本上，达到最佳的工作效果。
10. Dielectric Mask
(应用：近、远场图腾、雷射印制)
Dielectric masks 是一种非常薄(~1um)的玻璃基质经过图案化后的反射涂层。涂层的部分反射了光束；同时非涂层的部分让光束穿透。近场的光斑输出将非常接近涂层图型的形状，在远场可能出现绕射的图形，绕射情况如图型所示。
11. CGHs(Computer generated holographic) lens 非球面波前绕射透镜
材料：Fused Silica, ZnSe, ZnS, Si, Ge, GaP, GaAs, Sapphire
波长范围：193 nm to 14 μm
最大效能(Max. efficiency)：90 % with multilevel and gray scale structures
Max. NA (@ 632.8 nm)：0.1 (multilevel) / 0.4 (binary)
通光孔径(Clear aperture)：< 120 mm
尺寸：5 x 5 mm2 to 150 x 150 mm2
厚度：0.3 mm to 6.35 mm
表面涂层：Broadband or laser line AR